Optical Scattering: Measurements and Analysis, Third Edition

ویرایش: Third 
نویسندگان: John C. Stover  
سری: SPIE Press Monograph PM224 
ISBN (شابک) : 0819492515, 9780819492517 
ناشر: SPIE Press 
سال نشر: 2012 
تعداد صفحات: 334 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 8 مگابایت 

قیمت کتاب (تومان) : 46,000

چاپ اول این کتاب بر ارتباط پراکندگی از سطوح صاف نوری به ریز زبری روی آن سطوح متمرکز بود. دکتر استوور پس از گذراندن شش سال در صنعت نیمه هادی، نسخه سوم را به روز کرده و گسترش داده است. مدل‌های پراکنده برای حفره‌ها و ذرات و همچنین استفاده از اسکنرهای ویفر برای مکان‌یابی و اندازه‌گذاری ویژگی‌های سطح ایزوله به‌تازگی ارائه شده است. بخش‌های جدید کسب‌وکار اسکنر ویفر چند میلیون دلاری را پوشش می‌دهد و ثابت می‌کند که ریز زبری نویز است، نه سیگنال، در این سیستم‌ها. اندازه‌گیری‌های پراکندگی، که اکنون به طور معمول برای تعیین اینکه آیا ویژگی‌های سطح کوچک حفره‌ای هستند یا ذرات و الهام‌بخش فناوری جدیدی که اطلاعاتی در مورد مواد ذرات ارائه می‌دهد، استفاده می‌شود، نیز مورد بحث قرار می‌گیرد. این قابلیت‌های جدید اکنون توسط یک سری استانداردهای بین‌المللی پشتیبانی می‌شوند و فصل جدید آن اسناد را بررسی می‌کند.

اطلاعات جدیدی در مورد پراکندگی از سطوح ناهموار نوری نیز اضافه شده است. هنگامی که از حد بحرانی فراتر رفت، نمی توان از پراکندگی برای تعیین آمار زبری سطح استفاده کرد، اما هنوز هم می توان اطلاعات قابل توجهی به دست آورد - به خصوص زمانی که اندازه گیری ها روی محصولات تولید انبوه انجام می شود. تغییرات در اندازه‌گیری پوشش داده شده است، و خواننده نمونه‌هایی از اندازه‌گیری‌های پراکندگی را که با استفاده از دوربین برای کسری از هزینه و در کسری از زمانی که قبلاً ممکن بود، پیدا می‌کند. ایده ارتباط پراکندگی به ظاهر سطح نیز مورد بحث قرار گرفته است و ظاهر فصل کوتاه خود را دارد. بالاخره زیبایی در چشم بیننده است و آنچه می بینیم نور پراکنده است.

The first edition of this book concentrated on relating scatter from optically smooth surfaces to the microroughness on those surfaces. After spending six years in the semiconductor industry, Dr. Stover has updated and expanded the third edition. Newly included are scatter models for pits and particles as well as the use of wafer scanners to locate and size isolated surface features. New sections cover the multimillion-dollar wafer scanner business, establishing that microroughness is the noise, not the signal, in these systems. Scatter measurements, now routinely used to determine whether small-surface features are pits or particles and inspiring new technology that provides information on particle material, are also discussed. These new capabilities are now supported by a series of international standards, and a new chapter reviews those documents.

New information on scatter from optically rough surfaces has also been added. Once the critical limit is exceeded, scatter cannot be used to determine surface-roughness statistics, but considerable information can still be obtained - especially when measurements are made on mass-produced products. Changes in measurement are covered, and the reader will find examples of scatter measurements made using a camera for a fraction of the cost and in a fraction of the time previously possible. The idea of relating scatter to surface appearance is also discussed, and appearance has its own short chapter. After all, beauty is in the eye of the beholder, and what we see is scattered light.

Content: Preface to the first edition --
Preface to the second edition --
Acknowledgments for the second edition --
Preface to the third edition --
Acknowledgments for the third edition --
List of acronyms --
Chapter 1. Quantifying light scatter --
Chapter 2. Quantifying surface roughness --
Chapter 3. Scatter calculations and diffraction theory --
Chapter 4. Using Rayleigh-Rice to calculate smooth-surface statistics from the BRDF --
Chapter 5. Polarization of scattered light --
Chapter 6. Scattering models for discrete surface features --
Chapter 7. Instrumentation and measurement issues --
Chapter 8. Predicting scatter from roughness --
Chapter 9. Detection of discrete defects --
Chapter 10. Appearance and scattered light --
Chapter 11. Industrial applications --
Chapter 12. Published scatter standards --
Chapter 13. Scatter specifications --
Appendix A. Review of electromagnetic wave propagation --
Appendix B. Kirchhoff diffraction from sinusoidal gratings --
Appendix C. BSDF data --
Appendix D. Units --
References --
Works consulted.